Επιταξιακός αντιδραστήρας ημιαγωγών με επίστρωση SiC σε Ημιαγωγό

Σύντομη περιγραφή:

Η Semicera προσφέρει μια ολοκληρωμένη σειρά υποδοχέων και εξαρτημάτων γραφίτη που έχουν σχεδιαστεί για διάφορους αντιδραστήρες επιταξίας.

Μέσω στρατηγικών συνεργασιών με κορυφαίους OEM του κλάδου, εκτεταμένης τεχνογνωσίας σε υλικά και προηγμένων κατασκευαστικών δυνατοτήτων, η Semicera προσφέρει προσαρμοσμένα σχέδια για να ανταποκρίνονται στις συγκεκριμένες απαιτήσεις της εφαρμογής σας.Η δέσμευσή μας για αριστεία διασφαλίζει ότι λαμβάνετε βέλτιστες λύσεις για τις ανάγκες σας στον αντιδραστήρα επιταξίας.

 

Λεπτομέρεια προϊόντος

Ετικέτες προϊόντων

Η εταιρεία μας παρέχειΕπικάλυψη SiCυπηρεσίες επεξεργασίας στην επιφάνεια γραφίτη, κεραμικών και άλλων υλικών με τη μέθοδο CVD, έτσι ώστε ειδικά αέρια που περιέχουν άνθρακα και πυρίτιο να μπορούν να αντιδράσουν σε υψηλή θερμοκρασία για να ληφθούν μόρια Sic υψηλής καθαρότητας, τα οποία μπορούν να εναποτεθούν στην επιφάνεια των επικαλυμμένων υλικών για να σχηματίσουνΠροστατευτικό στρώμα SiCγια επιταξία τύπου κάννης hy pnotic.

 

Κύρια χαρακτηριστικά:

1. Γραφίτης με επίστρωση SiC υψηλής καθαρότητας

2. Ανώτερη αντοχή στη θερμότητα & θερμική ομοιομορφία

3. ΩραίαΕπικαλυμμένο με κρύσταλλο SiCγια λεία επιφάνεια

4. Υψηλή αντοχή έναντι του χημικού καθαρισμού

 
Δοχείο βαρελιού με επίστρωση SiC σε Ημιαγωγό

Βασικές προδιαγραφές τουΕπικάλυψη CVD-SIC

Ιδιότητες SiC-CVD

Κρυσταλλική Δομή FCC β φάση
Πυκνότητα g/cm ³ 3.21
Σκληρότητα Σκληρότητα Vickers 2500
Μέγεθος κόκκου μm 2~10
Χημική Καθαρότητα % 99,99995
Θερμοχωρητικότητα J·kg-1·K-1 640
Θερμοκρασία εξάχνωσης 2700
Καμπυλική δύναμη MPa (RT 4 σημείων) 415
Το Modulus του Young Gpa (κάμψη 4 pt, 1300℃) 430
Θερμική Διαστολή (CTE) 10-6K-1 4.5
Θερμική αγωγιμότητα (W/mK) 300

 

 
2--cvd-sic-purity---99-99995-_60366
5----sic-crystal_242127
Semicera Χώρος εργασίας
Χώρος εργασίας Semicera 2
Μηχάνημα εξοπλισμού
Επεξεργασία CNN, χημικός καθαρισμός, επίστρωση CVD
Η υπηρεσία μας

  • Προηγούμενος:
  • Επόμενο: