Περιγραφή
Οι φορείς γκοφρέτας Semicorex με επίστρωση SiC παρέχουν εξαιρετική θερμική σταθερότητα και αγωγιμότητα, εξασφαλίζοντας ομοιόμορφη κατανομή θερμότητας κατά τη διάρκεια των διεργασιών CVD, ζωτικής σημασίας για τα χαρακτηριστικά λεπτής μεμβράνης και επίστρωσης υψηλής ποιότητας.
Βασικά Χαρακτηριστικά:
1. Εξαιρετική θερμική σταθερότητα και αγωγιμότηταΟι φορείς γκοφρέτας με επίστρωση SiC διαπρέπουν στη διατήρηση σταθερών και σταθερών θερμοκρασιών, ζωτικής σημασίας για τις διαδικασίες καρδιαγγειακής νόσου. Αυτό εξασφαλίζει ομοιόμορφη κατανομή θερμότητας, οδηγώντας σε ανώτερη ποιότητα λεπτής μεμβράνης και επίστρωσης.
2. Κατασκευή ακριβείαςΚάθε φορέας γκοφρέτας κατασκευάζεται με αυστηρά πρότυπα, εξασφαλίζοντας ομοιόμορφο πάχος και ομαλότητα επιφάνειας. Αυτή η ακρίβεια είναι ζωτικής σημασίας για την επίτευξη σταθερών ρυθμών εναπόθεσης και ιδιοτήτων φιλμ σε πολλαπλές γκοφρέτες, βελτιώνοντας τη συνολική ποιότητα κατασκευής.
3. Φράγμα ακαθαρσιώνΗ επίστρωση SiC δρα ως αδιαπέραστο φράγμα, αποτρέποντας τη διάχυση ακαθαρσιών από τον υποδοχέα στη γκοφρέτα. Αυτό ελαχιστοποιεί τους κινδύνους μόλυνσης, κάτι που είναι κρίσιμο για την παραγωγή συσκευών ημιαγωγών υψηλής καθαρότητας.
4. Ανθεκτικότητα και αποδοτικότητα κόστουςΗ στιβαρή κατασκευή και η επίστρωση SiC ενισχύουν την ανθεκτικότητα των φορέων γκοφρέτας, μειώνοντας τη συχνότητα αντικατάστασης υποδοχέων. Αυτό οδηγεί σε χαμηλότερο κόστος συντήρησης και ελαχιστοποίηση του χρόνου διακοπής λειτουργίας, αυξάνοντας την αποτελεσματικότητα των εργασιών κατασκευής ημιαγωγών.
5. Επιλογές προσαρμογήςΟι φορείς γκοφρέτας Semicorex με επίστρωση SiC μπορούν να προσαρμοστούν ώστε να πληρούν συγκεκριμένες απαιτήσεις διαδικασίας, συμπεριλαμβανομένων των διακυμάνσεων στο μέγεθος, το σχήμα και το πάχος της επίστρωσης. Αυτή η ευελιξία επιτρέπει τη βελτιστοποίηση του υποδοχέα ώστε να ταιριάζει με τις μοναδικές απαιτήσεις των διαφορετικών διαδικασιών κατασκευής ημιαγωγών. Οι επιλογές προσαρμογής επιτρέπουν την ανάπτυξη σχεδίων υποδοχέων προσαρμοσμένων για εξειδικευμένες εφαρμογές, όπως η κατασκευή μεγάλου όγκου ή η έρευνα και ανάπτυξη, εξασφαλίζοντας βέλτιστη απόδοση για συγκεκριμένες περιπτώσεις χρήσης.
Εφαρμογές:
Τα Semicera Wafer Carriers με επίστρωση SiC είναι ιδανικά για:
• Επιταξιακή ανάπτυξη ημιαγωγών υλικών
• Διαδικασίες χημικής εναπόθεσης ατμών (CVD).
• Παραγωγή γκοφρετών ημιαγωγών υψηλής ποιότητας
• Προηγμένες εφαρμογές κατασκευής ημιαγωγών