SiC Coating Graphite Susceptor

Σύντομη περιγραφή:

Το SiC Coating Graphite Susceptor της Semicera Semiconductor προσφέρει ανώτερη θερμική απόδοση και ανθεκτικότητα για την επεξεργασία γκοφρέτας. Βασιστείτε στο Semicera για προηγμένους επικαλυμμένους με SiC υποδοχείς που έχουν σχεδιαστεί για να βελτιώνουν την αποτελεσματικότητα και την αξιοπιστία σε εφαρμογές ημιαγωγών.


Λεπτομέρεια προϊόντος

Ετικέτες προϊόντων

Περιγραφή

Τα SiC Wafer Susceptors για MOCVD (Metal-Organic Chemical Vapor Deposition) της Semicorex έχουν σχεδιαστεί για να ανταποκρίνονται στις απαιτητικές απαιτήσεις των διαδικασιών επιταξιακής εναπόθεσης. Χρησιμοποιώντας υψηλής ποιότητας καρβίδιο του πυριτίου (SiC), αυτοί οι υποδοχείς προσφέρουν απαράμιλλη ανθεκτικότητα και απόδοση σε περιβάλλοντα υψηλής θερμοκρασίας και διαβρωτικά, διασφαλίζοντας την ακριβή και αποτελεσματική ανάπτυξη των ημιαγωγών υλικών.

Βασικά Χαρακτηριστικά:

1. Ανώτερες Υλικές ΙδιότητεςΚατασκευασμένοι από υψηλής ποιότητας SiC, οι υποδοχείς γκοφρέτας μας παρουσιάζουν εξαιρετική θερμική αγωγιμότητα και χημική αντοχή. Αυτές οι ιδιότητες τους επιτρέπουν να αντέχουν στις ακραίες συνθήκες των διεργασιών MOCVD, συμπεριλαμβανομένων των υψηλών θερμοκρασιών και των διαβρωτικών αερίων, εξασφαλίζοντας μακροζωία και αξιόπιστη απόδοση.

2. Ακρίβεια στην Επιταξιακή ΕναπόθεσηΗ ακριβής κατασκευή των SiC Wafer Susceptors μας εξασφαλίζει ομοιόμορφη κατανομή θερμοκρασίας σε όλη την επιφάνεια του πλακιδίου, διευκολύνοντας τη σταθερή και υψηλής ποιότητας ανάπτυξη επιταξιακού στρώματος. Αυτή η ακρίβεια είναι κρίσιμη για την παραγωγή ημιαγωγών με βέλτιστες ηλεκτρικές ιδιότητες.

3. Ενισχυμένη αντοχήΤο στιβαρό υλικό SiC παρέχει εξαιρετική αντοχή στη φθορά και την υποβάθμιση, ακόμη και υπό συνεχή έκθεση σε σκληρά περιβάλλοντα διεργασιών. Αυτή η ανθεκτικότητα μειώνει τη συχνότητα αντικατάστασης υποδοχέων, ελαχιστοποιώντας το χρόνο διακοπής λειτουργίας και το λειτουργικό κόστος.

Εφαρμογές:

Τα SiC Wafer Susceptors για MOCVD της Semicorex είναι ιδανικά για:

• Επιταξιακή ανάπτυξη ημιαγωγών υλικών

• Διαδικασίες MOCVD υψηλής θερμοκρασίας

• Παραγωγή GaN, AlN και άλλων σύνθετων ημιαγωγών

• Προηγμένες εφαρμογές κατασκευής ημιαγωγών

Βασικές προδιαγραφές των επιστρώσεων CVD-SIC:

微信截图_20240wert729144258

Οφέλη:

Υψηλή Ακρίβεια: Εξασφαλίζει ομοιόμορφη και υψηλής ποιότητας επιταξιακή ανάπτυξη.

Απόδοση μακράς διαρκείας: Η εξαιρετική αντοχή μειώνει τη συχνότητα αντικατάστασης.

• Κόστους-Αποτελεσματικότητας: Ελαχιστοποιεί το λειτουργικό κόστος μέσω μειωμένου χρόνου διακοπής λειτουργίας και συντήρησης.

Ευστροφία: Προσαρμόσιμο για να ταιριάζει σε διάφορες απαιτήσεις διαδικασίας MOCVD.

Χώρος εργασίας Semicera
Χώρος εργασίας Semicera 2
Μηχάνημα εξοπλισμού
Επεξεργασία CNN, χημικός καθαρισμός, επίστρωση CVD
Αποθήκη Semicera
Η υπηρεσία μας

  • Προηγούμενος:
  • Επόμενος: