Διεργασία με επίστρωση SiC για Φορείς γραφίτη με επίστρωση SiC με βάση γραφίτη

Διατηρούμε πολύ στενές ανοχές κατά την εφαρμογή τουΕπικάλυψη SiC, χρησιμοποιώντας μηχανουργική κατεργασία υψηλής ακρίβειας για να εξασφαλιστεί ένα ομοιόμορφο προφίλ υποδοχέα. Παράγουμε επίσης υλικά με ιδανικές ιδιότητες ηλεκτρικής αντίστασης για χρήση σε επαγωγικά θερμαινόμενα συστήματα. Όλα τα τελικά εξαρτήματα συνοδεύονται από πιστοποιητικό καθαρότητας και συμμόρφωσης διαστάσεων.

Η εταιρεία μας παρέχειΕπικάλυψη SiCΥπηρεσίες επεξεργασίας με μέθοδο CVD στην επιφάνεια γραφίτη, κεραμικών και άλλων υλικών, έτσι ώστε ειδικά αέρια που περιέχουν άνθρακα και πυρίτιο να αντιδρούν σε υψηλή θερμοκρασία για να ληφθούν μόρια SiC υψηλής καθαρότητας, μόρια που εναποτίθενται στην επιφάνεια των επικαλυμμένων υλικών, σχηματίζοντας προστατευτικό στρώμα SIC. Το SIC που σχηματίζεται είναι σταθερά συνδεδεμένο με τη βάση γραφίτη, δίνοντας στη βάση γραφίτη ιδιαίτερες ιδιότητες, καθιστώντας έτσι την επιφάνεια του γραφίτη συμπαγή, χωρίς πορώδες, αντοχή σε υψηλές θερμοκρασίες, αντοχή στη διάβρωση και αντοχή στην οξείδωση.

Η διαδικασία CVD παρέχει εξαιρετικά υψηλή καθαρότητα και θεωρητική πυκνότηταΕπικάλυψη SiCχωρίς πορώδες. Επιπλέον, καθώς το καρβίδιο του πυριτίου είναι πολύ σκληρό, μπορεί να γυαλιστεί σε μια επιφάνεια που μοιάζει με καθρέφτη.Επικάλυψη καρβιδίου του πυριτίου CVD (SiC).παρείχε πολλά πλεονεκτήματα όπως η επιφάνεια εξαιρετικά υψηλής καθαρότητας και η εξαιρετική αντοχή στη φθορά. Καθώς τα επικαλυμμένα προϊόντα έχουν εξαιρετική απόδοση σε συνθήκες υψηλού κενού και υψηλής θερμοκρασίας, είναι ιδανικά για εφαρμογές στη βιομηχανία ημιαγωγών και σε άλλο εξαιρετικά καθαρό περιβάλλον. Παρέχουμε επίσης προϊόντα πυρολυτικού γραφίτη (PG).