Η εταιρεία μας παρέχειΕπικάλυψη SiCυπηρεσίες επεξεργασίας στην επιφάνεια γραφίτη, κεραμικών και άλλων υλικών με τη μέθοδο CVD, έτσι ώστε ειδικά αέρια που περιέχουν άνθρακα και πυρίτιο να μπορούν να αντιδράσουν σε υψηλή θερμοκρασία για να ληφθούν μόρια Sic υψηλής καθαρότητας, τα οποία μπορούν να εναποτεθούν στην επιφάνεια των επικαλυμμένων υλικών για να σχηματίσουνΠροστατευτικό στρώμα SiCγια επιταξία τύπου κάννης hy pnotic.
Κύρια χαρακτηριστικά:
1. Γραφίτης με επίστρωση SiC υψηλής καθαρότητας
2. Ανώτερη αντοχή στη θερμότητα & θερμική ομοιομορφία
3. ΩραίαΕπικαλυμμένο με κρύσταλλο SiCγια λεία επιφάνεια
4. Υψηλή αντοχή έναντι του χημικού καθαρισμού
Βασικές προδιαγραφές τουΕπικάλυψη CVD-SIC
| Ιδιότητες SiC-CVD | ||
| Κρυσταλλική Δομή | FCC β φάση | |
| Πυκνότητα | g/cm ³ | 3.21 |
| Σκληρότητα | Σκληρότητα Vickers | 2500 |
| Μέγεθος κόκκου | μm | 2~10 |
| Χημική Καθαρότητα | % | 99,99995 |
| Θερμοχωρητικότητα | J·kg-1·K-1 | 640 |
| Θερμοκρασία εξάχνωσης | ℃ | 2700 |
| Καμπυλική δύναμη | MPa (RT 4 σημείων) | 415 |
| Το Modulus του Young | Gpa (κάμψη 4 pt, 1300℃) | 430 |
| Θερμική Διαστολή (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
| Θερμική αγωγιμότητα | (W/mK) | 300 |
-
Υποδοχή βαρελιού με επικάλυψη καρβιδίου πυριτίου για Waf...
-
Καυτή ζώνη θερμαντήρα γραφίτη/θερμό πεδίο γραφίτη, περίπου...
-
Θερμαντικά στοιχεία γραφίτη για βιομηχανικούς κλιβάνους
-
Αντιδραστήρας βαρελιού με επίστρωση SiC για επιταξία υγρής φάσης
-
Βάρκα γκοφρέτα καρβιδίου πυριτίου
-
Εργαλείο γραφίτη με επικάλυψη καρβιδίου πυριτίου, για Epit...