Η εταιρεία μας παρέχειΕπικάλυψη SiCυπηρεσίες επεξεργασίας στην επιφάνεια γραφίτη, κεραμικών και άλλων υλικών με τη μέθοδο CVD, έτσι ώστε ειδικά αέρια που περιέχουν άνθρακα και πυρίτιο να μπορούν να αντιδράσουν σε υψηλή θερμοκρασία για να ληφθούν μόρια Sic υψηλής καθαρότητας, τα οποία μπορούν να εναποτεθούν στην επιφάνεια των επικαλυμμένων υλικών για να σχηματίσουνΠροστατευτικό στρώμα SiCγια επιταξία τύπου κάννης hy pnotic.
Κύρια χαρακτηριστικά:
1. Γραφίτης με επίστρωση SiC υψηλής καθαρότητας
2. Ανώτερη αντοχή στη θερμότητα & θερμική ομοιομορφία
3. ΩραίαΕπικαλυμμένο με κρύσταλλο SiCγια λεία επιφάνεια
4. Υψηλή αντοχή έναντι του χημικού καθαρισμού

Βασικές προδιαγραφές τουΕπικάλυψη CVD-SIC
Ιδιότητες SiC-CVD | ||
Κρυσταλλική Δομή | FCC β φάση | |
Πυκνότητα | g/cm ³ | 3.21 |
Σκληρότητα | Σκληρότητα Vickers | 2500 |
Μέγεθος κόκκου | μm | 2~10 |
Χημική Καθαρότητα | % | 99,99995 |
Θερμοχωρητικότητα | J·kg-1·K-1 | 640 |
Θερμοκρασία εξάχνωσης | ℃ | 2700 |
Καμπτική δύναμη | MPa (RT 4 σημείων) | 415 |
Το Modulus του Young | Gpa (κάμψη 4 pt, 1300℃) | 430 |
Θερμική Διαστολή (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
Θερμική αγωγιμότητα | (W/mK) | 300 |









-
Παρέχετε λέιζερ προηγμένης τεχνολογίας microjet LMJ ...
-
19 τεμάχια εξοπλισμού βάσης γραφίτη 2 ιντσών MOCVD...
-
Διεργασία με επίστρωση SiC για βάση γραφίτη Επικαλυμμένη με SiC...
-
Επιταξιακός αντιδραστήρας ημιαγωγών με επίστρωση SiC για ...
-
Προσαρμογή προϊόντος καρβιδίου τανταλίου υψηλής καθαρότητας
-
MOCVD Susceptor για Επιταξιακή Ανάπτυξη