Η εταιρεία μας παρέχειΕπικάλυψη SiCυπηρεσίες επεξεργασίας στην επιφάνεια γραφίτη, κεραμικών και άλλων υλικών με τη μέθοδο CVD, έτσι ώστε ειδικά αέρια που περιέχουν άνθρακα και πυρίτιο να μπορούν να αντιδράσουν σε υψηλή θερμοκρασία για να ληφθούν μόρια Sic υψηλής καθαρότητας, τα οποία μπορούν να εναποτεθούν στην επιφάνεια των επικαλυμμένων υλικών για να σχηματίσουνΠροστατευτικό στρώμα SiCγια επιταξία τύπου κάννης hy pnotic.
Κύρια χαρακτηριστικά:
1. Γραφίτης με επίστρωση SiC υψηλής καθαρότητας
2. Ανώτερη αντοχή στη θερμότητα & θερμική ομοιομορφία
3. ΩραίαΕπικαλυμμένο με κρύσταλλο SiCγια λεία επιφάνεια
4. Υψηλή αντοχή έναντι του χημικού καθαρισμού

Βασικές προδιαγραφές τουΕπικάλυψη CVD-SIC
Ιδιότητες SiC-CVD | ||
Κρυσταλλική Δομή | FCC β φάση | |
Πυκνότητα | g/cm ³ | 3.21 |
Σκληρότητα | Σκληρότητα Vickers | 2500 |
Μέγεθος κόκκου | μm | 2~10 |
Χημική Καθαρότητα | % | 99,99995 |
Θερμοχωρητικότητα | J·kg-1·K-1 | 640 |
Θερμοκρασία εξάχνωσης | ℃ | 2700 |
Καμπτική δύναμη | MPa (RT 4 σημείων) | 415 |
Το Modulus του Young | Gpa (κάμψη 4 pt, 1300℃) | 430 |
Θερμική Διαστολή (CTE) | 10-6K-1 | 4.5 |
Θερμική αγωγιμότητα | (W/mK) | 300 |









-
Προσαρμοσμένο σκάφος γκοφρέτας ημιαγωγών καρβιδίου πυριτίου...
-
Προηγμένη κοπή υλικού, micro jet laser proc...
-
Πορώδες καρβίδιο τανταλίου, υλικό θερμού πεδίου για...
-
Τετράγωνο σκάφος γκοφρέτας καρβιδίου πυριτίου
-
Μεγιστοποιήστε την απόδοση και την απόδοση με ημι-κερά...
-
SiC Coating Liquid Phase Barrel Epi System